ナノ秒パルスファイバーレーザ
ナノ秒パルスのファイバーレーザです。
ファイバーレーザベースの為、非常に高品質でメンテナンス性に優れたレーザです。
高パルスエネルギー、高ピークパワー、高繰り返し周波数で且つ品質の良いビームをご提供します。
マーキング、切断等の材料加工からLIDARや波長変換用の種光としてもご利用いただけます。
製品仕様 | |
波長 | 1030nm |
平均出力 | 100W (at 300kHz) |
繰り返し周波数 | 50~500kHz |
パルス幅 | 5ns |
偏光 | ランダム |
M2 | <1.3 |
出力安定性 | <±5% |
使用温度 | 10~30℃ |
保存温度 | 5~70℃ |
冷却 | 水冷 |
電源 | AC100~240V(50/60Hz) |
ウォームアップタイム | 10分 |
寸法 | 345(幅)×490(奥行き)×127(高さ)mm |
アプリケーション例
ガラスの穴あけ
高いパルスエネルギー、高いビーム品質、高い繰り返し周波数のファイバーレーザにより、ガラスに対してテーパーフリーの高速穴あけ加工が可能となります。
ガラスのマーキング
高いピークパワーのレーザビームをガラスに照射することによりマイクロクラックを形成し、マーキングを行うことができます。この効果はガラスの内側にも同様に起こるため、ガラスの表面はそのままで内部にマーキングを行うと行ったことも可能となります。
薄膜パターニング
薄膜は太陽光発電装置、ディスプレイなど様々な用途に使用されています。高繰り返しの単パルスレーザはこ、基板を損傷することなくコーティングを選択的にアブレーションすることにより、これらのコーティングを高精度で高速にパターン化するのに最適です。