高エネルギー高繰り返し532nmナノ秒レーザー

高エネルギー高繰り返し532nmナノ秒レーザー

ナノ秒基本波固体レーザー

高パルスエネルギー&高繰り返し周波数

最大12mJのパルスエネルギー、30kHzの繰り返し周波数での発振を可能とする532nmナノ秒レーザー発振機です。

パワー安定性がRMS<0.6%@8時間と非常に高く、様々なアプリケーションにおいて信頼性のある光源として利用することができます。

穴あけや切断、脆性材料加工、金属のマイクロマシニング、マーキング、彫刻、ウォータージェットガイドレーザー加工、LIBS、LIDAR、各種測定に利用できます。

 

製品仕様

型式 PV532-100FN
中心波長 532±1mm
パルス幅 80-300ns @ 10kHz
繰り返し周波数 8~30kHz
パルスエネルギー >12mJ @ 10kHz
平均出力 >120W @ 10kHz
パワー安定性 RMS<0.6% @ 8時間
真円度 >90%
ビーム拡がり角 <1.5mrad
M2 <10
冷却 水冷
ファイバカップリング効率 >90%
使用温度 15~30℃
保管温度 -10~55℃